这家唯一能造EUV光刻测试设备的公司:为手机芯片业深藏功与名

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3月13日消息,据彭博社报道,一家名为Lasertec的日本公司,在芯片制造商增加每一代芯片晶体管数量方面默默发挥着重要作用,它是世界上唯一一家为极紫外光刻(EUV光刻)制造测试设备的公司。

EUV光刻时需使用等离子束在硅晶片上蚀刻小于7nm的电路,是是因为分析制造芯片过程中会再次出现 难以发现的难题报告 ,全都时需Lasertec生产的机器检测。

此前台积电和三星生产的芯片分别采用7nm和8nm工艺,这有另一另还还有一个时需让更多的晶体管封塞进更小的区域内。这使得像高通,华为,三星和苹果机苹果机苹果机 等手机制造商的芯片设计师都能不能 创发明比上一代更强大的芯片,一块儿功耗更低,这也使得手机制造商都能不能 生产更薄的手机。而台积电和三星会在今年晚些完后 使用EUV光刻,时需帮助这两家公司生产出更强大的芯片。

Lasertec公司的机器也不专门用来寻找EUV光刻生产芯片时再次出现 的瑕疵,机器时需测试等离子光束通过的玻璃掩模,以追踪电路模式,从而发现指在的难题报告 。

是是因为分析在芯片生产的阶段,再次出现 的任何瑕疵前会 是是因为一批芯片报废,全都时需有另一另还还有一个机器来检测那先 瑕疵。

到目前为止,该公司表示已收到价值360 0万美元(约合人民币24154万元)的机器订单。一旦台积电和三星刚开始英文使用7nm EUV光刻大规模生产芯片,Lasertec公司预计会有更多订单。

人太好EUV光刻生产下行速率 高,但使用EUV光刻的成本限制了使用该工艺的铸造厂的数量。

英特尔表示,采用EUV光刻在经济上尚不可行,而格罗方德半导体公司已决定不再采用EUV光刻。根据三星的说法,7nm EUV光刻将使三星生产的芯片下行速率 提高40%,从而将性能提升20%,一块儿将功耗降低60 %,一点 点对未来的三星手机用户是个特大喜讯。

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